Διαδικασία χημικής απόθεσης ατμών
Η διαδικασία εναπόθεσης χημικών ατμών διαιρείται σε τρία σημαντικά στάδια: το αέριο αντίδρασης διαχέεται στην επιφάνεια του υποστρώματος, το αέριο αντίδρασης προσροφά στην επιφάνεια του υποστρώματος, μια χημική αντίδραση εμφανίζεται στην επιφάνεια του υποστρώματος για να σχηματίσει μια στερεή απόθεση, και τα υποπροϊόντα αέριας φάσης αποσυνδέονται από την επιφάνεια υποστρώματος. Οι πιο συνηθισμένες αντιδράσεις χημικής εναπόθεσης ατμού είναι: αντιδράσεις θερμικής αποσύνθεσης, αντιδράσεις χημικής σύνθεσης και αντιδράσεις χημικών μεταφορών. Συνήθως τα TiC ή TiN εναποτίθενται εισάγοντας TiCl4, H2, CH4 και άλλα αέρια μέσα στο θάλαμο αντίδρασης στους 850-1100 ℃ και σχηματίζοντας μια επικάλυψη στην επιφάνεια του υποστρώματος μέσω χημικής αντίδρασης.